إضافة تطبيقات متقدمة للحفر الرطب واستعادة رقائق المراقبة لتصنيع المنطق والذاكرة

فريمنت، كاليفورنيا، 7 أغسطس 2026 (جلوب نيوزواير) - أعلنت شركة ACM Research, Inc. ("ACM") (ناسداك: ACMR)، وهي شركة رائدة في توريد حلول معالجة الرقائق واللوحات لتطبيقات أشباه الموصلات والتغليف المتقدم، اليوم عن توسيع نظام Ultra C Tahoe الخاص بها ليصبح منصة معالجة رطبة متعددة العمليات مع تطبيقات معالجة جديدة تدعم نطاقًا أوسع من تطبيقات المعالجة الرطبة المتقدمة لتصنيع أجهزة المنطق والذاكرة. وقد اعتمدت العديد من الشركات الرائدة في تصنيع أشباه الموصلات هذه المنصة الموسعة، مما يدل على جاهزيتها للإنتاج وتعدد استخداماتها وقابليتها للتوسع في مجال تصنيع أشباه الموصلات المتقدمة.

بالاستفادة من تقنية المعالجة الرطبة الهجينة الخاصة بشركة ACM، تدمج منصة Ultra C Tahoe عمليات المعالجة الدفعية والمعالجة الفردية للرقاقات في بنية مشتركة، مما يتيح تنفيذ العديد من عمليات المعالجة الرطبة المتقدمة على منصة واحدة. تستفيد المنصة استفادة كاملة من مزايا التنظيف الدفعي، مما يدعم أوقات معالجة أطول ويقلل من استهلاك المواد الكيميائية، مع توفير المزايا الرئيسية للتنظيف الفردي للرقاقات، بما في ذلك كفاءة عالية في إزالة الجسيمات، وتقليل التلوث المتبادل بين الرقاقات بشكل كبير، والتحكم الدقيق في وقت المعالجة. أُضيفت مؤخرًا إمكانيات معالجة استعادة الرقاقات من Recycle Monitor إلى منصة Ultra C Tahoe لعقدة المعالجة المتقدمة. يستفيد نظام Ultra C Tahoe من البنية الهجينة لدمج خطوات المعالجة المتعددة التي كانت تُنفذ سابقًا على أدوات منفصلة في منصة هجينة واحدة. هذا يقلل من عمليات نقل الرقاقات بين الأدوات ويقصر وقت الدورة، مع توفير أداء مُحسّن لإزالة الجسيمات وإنتاجية أعلى.

قال الدكتور ديفيد وانغ، الرئيس والمدير التنفيذي لشركة ACM: "مع ازدياد تعقيد صناعة أشباه الموصلات، يحتاج العملاء إلى حلول تُحسّن الإنتاجية مع الحفاظ على المرونة الكافية لدعم متطلبات العمليات المتطورة. ويُبرهن توسيع منصة تاهو لتشمل عمليات متعددة على تنوع بنيتنا الهجينة وقابليتها للتوسع في مجال تصنيع أشباه الموصلات المتقدمة. وستواصل ACM ريادتها في تحقيق أداء عالمي المستوى في عمليات التصنيع، ودمج المزايا البيئية في تطوير المنتجات، للمساهمة في جعل صناعة أشباه الموصلات المتقدمة أكثر كفاءة واستدامة."

تطبيقات جديدة ومزايا رئيسية لمنصة Ultra C Tahoe:

• إمكانيات معالجة موسعة: تُوسّع إضافة تقنية ضخ النيتروجين (N2) على طاولة العمل نطاق المنصة لدعم مجموعة متنامية من تطبيقات المعالجة الرطبة المتقدمة، بما في ذلك حفر تجاويف نتريد السيليكون الموحد، وحفر البولي سيليكون وإعادة الحفر، ومعالجة تجاويف التنجستن، وحفر تجاويف السيليكون والجرمانيوم. وبالتكامل مع تقنيات SAPS وTEBO وSMT الخاصة بشركة ACM، بالإضافة إلى التجفيف بالكحول الأيزوبروبيلي الساخن، توفر المنصة الموسعة إمكانيات متكاملة للحفر والتنظيف والتجفيف المتقدم مع تقليل الضرر الذي يلحق بالهياكل المنقوشة.
• استعادة رقائق المراقبة بكفاءة أعلى: تُستخدم رقائق المراقبة لتتبع حالة الأدوات واستقرار العملية. تدعم عملية استعادة رقائق المراقبة من Tahoe Recycle إزالة الأغشية والشوائب، والتنظيف، والتجفيف. وهي تُدمج هذه الخطوات في منصة هجينة واحدة، مما يقلل من عمليات نقل الرقائق بين الأدوات ويُقصر وقت الدورة. كما تُوفر العملية قدرة مُحسّنة على إزالة الأغشية للرقائق المطلية من الجانبين والرقائق ذات الأغشية السميكة، مما يُحسّن نظافة الرقائق المُستعادة وكفاءة العملية بشكل عام. تطبيق Tahoe Recycle مُستخدم الآن في الإنتاج بكميات كبيرة في مرافق العملاء.
• التحكم المحسن في الجسيمات والتلوث: حققت منصة Ultra C Tahoe متوسط عدد الجسيمات أقل من 6 جسيمات عند 26 نانومتر، مع تلوث المعادن السطحي أقل من 1 × 10⁹ ذرة/سم².
• الفوائد البيئية والاقتصادية: يمكن لمنصة Ultra C Tahoe أن تقلل من استهلاك حمض الكبريتيك بنسبة تصل إلى 75٪، مما يساعد على خفض تكاليف التصنيع بكميات كبيرة، وتقليل النفايات الكيميائية ذات الصلة، ودعم أهداف الاستدامة والحوكمة البيئية والاجتماعية والمؤسسية للعملاء.

البيانات التطلعية

بعض البيانات الواردة في هذا البيان الصحفي ليست حقائق تاريخية، وقد تُعتبر بيانات استشرافية بالمعنى المقصود في قانون إصلاح التقاضي بشأن الأوراق المالية الخاصة لعام 1995. وتُستخدم كلمات مثل "يخطط" و"يتوقع" و"يعتقد" و"يستبق" و"مصمم" وما شابهها للدلالة على البيانات الاستشرافية. وتستند هذه البيانات إلى توقعات ومعتقدات إدارة شركة ACM الحالية، وتنطوي على عدد من المخاطر والشكوك التي يصعب التنبؤ بها، والتي قد تؤدي إلى اختلاف النتائج الفعلية اختلافًا جوهريًا عن تلك المذكورة صراحةً أو ضمنًا في البيانات الاستشرافية. ويمكن الاطلاع على وصف لبعض هذه المخاطر والشكوك وغيرها من الأمور في الإفصاحات التي تقدمها شركة ACM إلى هيئة الأوراق المالية والبورصات الأمريكية، والمتاحة جميعها على الموقع الإلكتروني www.sec.gov. ونظرًا لأن البيانات الاستشرافية تنطوي على مخاطر وشكوك، فقد تختلف النتائج والأحداث الفعلية اختلافًا جوهريًا عن النتائج والأحداث التي تتوقعها شركة ACM حاليًا. لذا، يُنصح القراء بعدم الاعتماد المفرط على هذه البيانات الاستشرافية، التي لا تُعتبر صحيحة إلا في تاريخ هذا البيان. لا تتحمل شركة ACM أي التزام بتحديث هذه البيانات التطلعية علنًا لتعكس الأحداث أو الظروف التي تحدث بعد تاريخ هذا البيان أو لتعكس أي تغيير في توقعاتها فيما يتعلق بهذه البيانات التطلعية أو وقوع أحداث غير متوقعة.

نبذة عن شركة ACM Research, Inc.

تُطوّر شركة ACM وتصنع وتبيع معدات معالجة أشباه الموصلات، والتي تشمل التنظيف، والطلاء الكهربائي، والتلميع الخالي من الإجهاد، وعمليات الأفران العمودية، والمسارات، والترسيب الكيميائي للبخار المعزز بالبلازما (PECVD)، وأدوات تغليف الرقاقات واللوحات، مما يُتيح تصنيع أجهزة أشباه الموصلات المتقدمة وشبه الحرجة. تلتزم ACM بتقديم حلول معالجة مُخصصة وعالية الأداء وفعّالة من حيث التكلفة، يُمكن لمصنعي أشباه الموصلات استخدامها في العديد من خطوات التصنيع لتحسين الإنتاجية وزيادة عائد المنتج. لمزيد من المعلومات، تفضل بزيارة الموقع الإلكتروني www.acmr.com .

© شركة ACM Research، تُعدّ Ultra C وSAPS وTEBO وشعار ACM Research علامات تجارية مسجلة لشركة ACM Research. ولتسهيل الأمر، تظهر العلامة التجارية في هذا البيان الصحفي بدون رمز ™، ولكن هذا لا يعني أن شركة ACM ستتخلى عن ممارسة حقوقها في هذه العلامات التجارية إلى أقصى حد يسمح به القانون المعمول به. جميع العلامات التجارية الأخرى هي ملك لأصحابها المعنيين.